[美股百科] 科磊公司

公司简介 KLA-Tencor公司为全球半导体和相关纳米电子行业设计,制造和销售过程控制和良率管理解决方案。该公司提供芯片和晶圆制造产品,包括缺陷检查和审查系统,计量解决方案,原位过程监控产品,计算光刻软件和数据分析系统,供芯片制造商在整个半导体制造过程中管理产量。 它还提供掩模版制造产品,例如掩模检测,计量和掩模车间的数据分析系统;包装制造产品包括独立和集群检查和计量系统,包括晶片级封装检查/计量和元件检测/计量产品,用于半导体封装领域的各种应用。此外,该公司还为显示器市场提供化合物半导体,功率器件,发光二极管和微机电系统制造产品;数据存储介质/磁头制造产品,包括过程控制设备,测试设备和表面轮廓仪,以及计量和缺陷检测解决方案;和光学和测针分析仪,以及用于通用/实验室应用的原位过程监控产品。 此外,它还提供翻新系统,再制造系统以及K-T Pro名称下的增强和升级系统;和服务工程,技术支持和知识管理系统服务。该公司提供其产品和服务,供各种裸晶圆,集成电路,光罩和硬盘驱动器制造商使用。 KLA-Tencor公司成立于1975年,总部位于加利福尼亚州的米尔皮塔斯。 mobile_info

[美股百科] 耐诺公司

公司简介 Nanometrics Incorporated提供过程控制计量和检测系统,主要用于制造全球半导体和其他固态器件。它提供自动化测量系统,为晶体管和互连计量应用提供光学关键尺寸,薄膜测量和晶圆应力;以及安装在晶圆处理设备上的集成计量系统,以提供近实时测量。 该公司的材料表征产品包括用于监控离散电子工业,光电子,高亮度LED,太阳能光伏,化合物半导体,应变硅和绝缘体上硅的物理,光学,电学和材料特性的系统。器件,包括成分,晶体结构,层厚度,掺杂剂浓度,污染和电子迁移率。 它还提供NanoDiffract,一种建模,可视化和分析软件,可从自动化和集成的计量系统中获取信号,从而提供在线测量的关键尺寸,厚度和光学特性; SpectraProbe,一种无需模型的引擎,可以快速解决在线偏移检测和控制问题; NanoGen,一种企业级计算硬件系统,用于运行计算密集型分析软件;和NanoCentral,一个基于fab的网络和服务器系统,为SpectraProbe和连接的测量系统提供连接和计算支持。该公司成立于1975年,总部位于加利福尼亚州的米尔皮塔斯。 mobile_info

[美股百科] 泰瑞达公司

公司简介 Teradyne,Inc。在全球范围内设计,开发,制造,销售和支持自动测试设备。其半导体测试部门为汽车,工业,通信,消费,计算机和电子游戏以及其他应用中的晶圆级和器件封装测试提供半导体测试产品和服务。 该部分提供FLEX测试平台系统; J750测试系统解决了体积最大的半导体器件;用于测试存储设备的Magnum平台,例如闪存和DRAM;和ETS平台供半导体制造商使用,以及模拟/混合信号市场中的装配和测试分包商。 该部门为集成器件制造商提供服...

[美股百科] 克里科技公司

公司简介 Cree,Inc。在美国,中国,欧洲,韩国,日本,马来西亚,台湾和国际上为电力和射频(RF)应用提供照明级发光二极管(LED),照明和半导体产品。 。它分为三个部分:Wolfspeed,LED产品和照明产品。 Wolfspeed部门提供碳化硅(SiC)材料,用于射频,电源开关,宝石和其他应用。它还提供SiC功率器件产品,包括SiC肖特基二极管,金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET),电源模块和用于电动汽车的栅极驱动板,包括充电基础设施,服务器电源,...

[美股百科] Veeco Instruments Inc 公司

公司简介 Veeco Instruments Inc.及其子公司在全球范围内开发,制造,销售和支持半导体工艺设备。 它提供金属有机化学气相沉积系统; 封装光刻设备; 精密表面处理系统; 激光退火系统; 离子束蚀刻和沉积系统; 分子束外延系统; 3D晶圆检测系统; 和原子层沉积和其他沉积系统。 该公司的产品销售给发光二极管,微机电系统,外包半导体组装和测试,硬盘驱动器和半导体制造商,以及研究中心和大学。 Veeco Instruments Inc.成立于1945年,总部位于纽约Plainview。 mobile_info

[美股百科] 拉姆研究公司

公司简介 Lam Research Corporation设计,制造,营销,翻新和服务用于制造全球集成电路的半导体加工设备。该公司提供ALTUS系统,用于沉积用于钨金属化应用的保形膜;用于铜大马士革制造的SABRE电化学沉积产品; SOLA紫外线热处理产品用于薄膜处理; SPEED gapfill高密度等离子体化学气相沉积(CVD)产品;前锋单晶圆原子层沉积(ALD)产品;和VECTOR等离子体增强CVD ALD产品。 它还为介电蚀刻应用提供Flex; Kiyo用于导体蚀刻应用;用于硅通孔蚀刻应用的Syndion;和Versys金属产品用于金属蚀刻工艺。此外,该公司还提供Coronus斜面清洁产品,以提高模具产量;和Da Vinci,DV-Prime,EOS,SP一起解决一系列晶圆清洗问题。 此外,它还提供Metryx质量计量系统,用于高纵横比蚀刻,保形和ALD /侧壁沉积,水平处理,薄膜密度监测,碳掩模开放和晶圆清洁/聚合物去除应用;和传统产品。 Lam Research Corporation成立于1980年,总部位于加利福尼亚州弗里蒙特。 mobile_info